RPS AX7695 远程等离子体源控制器 – 高精度、高稳定，晶圆工艺品质保障

描述

MKS RPS AX7695：这块远程等离子体源（RPS）控制器，是半导体和FPD制造中的**“能量中枢”！它负责高精度控制射频（RF）功率**，驱动等离子体源进行超净清洗和活化。额定频率：13.56 MHz（典型值），功率精度：≤±1%，通信接口：RS-232/以太网。专治各种高精度等离子体工艺控制难题。

RPS AX7695 产品概述

兄弟，你手里的 MKS RPS AX7695 模块，是 MKS 远程等离子体源（Remote Plasma Source, RPS）系统中的一个核心控制或功率单元。它可不是一个孤立的设备，它是集成在整个等离子体系统里的大脑和神经中枢。在半导体制造流程中，例如晶圆的前处理、刻蚀腔体的清洁（Chamber Cleaning）或低损伤沉积等关键步骤，都需要高活性、高纯度的等离子体。

RPS AX7695 的主要功能，就是高精度地产生和调节驱动等离子体源所需的射频 (RF) 功率。等离子体源会利用这个射频能量，将工艺气体（如氟气、氮气或氧气）分解成高活性的自由基（Free Radicals），这些自由基被输送到反应腔内，进行无损伤、高选择性的化学反应。它的价值在于能够精确控制等离子体的密度和均匀性，直接影响到晶圆表面处理的洁净度、损伤度和均匀性。在亚纳米级的半导体工艺中，任何微小的功率波动都可能导致批次报废（Batch Loss），所以 MKS RPS AX7695 的稳定性是压倒一切的。

这个型号通常集成在等离子体电源柜中，它具备复杂的闭环反馈控制能力，能够实时监测等离子体的状态，并快速调整射频输出，确保工艺条件高度一致。可以说，你拿到的 MKS RPS AX7695，就是保障你的高科技制造工艺能够稳定、精准、高效运行的核心钥匙。

RPS AX7695 MKS

技术规格

主要特点和优势

这块 MKS RPS AX7695 的特点，概括起来就是**“快、准、稳”，专为最挑剔的高科技制造而打造。它不是泛泛之辈，是吃晶圆厂这碗饭的顶尖配置**。

首先，极致的功率精度与重复性。在半导体刻蚀或沉积工艺中，等离子体功率的微小变化都会影响到薄膜的均匀性和刻蚀的深度。RPS AX7695 的设计核心就是闭环功率控制，它能以毫秒级的速度实时调整输出，确保实际功率与设定值之间偏差极小，甚至低于 ±1%。这种高重复性（High Repeatability）对提高批次良率（Yield Rate）来说，是至关重要的。

其次，先进的通信和集成能力。作为现代半导体设备的一部分，MKS RPS AX7695 提供了包括 DeviceNet、EtherCAT 或标准的RS-232等多种工业通信接口，能无缝集成到设备自动化（Equipment Automation）系统中，便于上位机（Host Controller）进行远程监控和精确配方控制。这使得它可以根据不同的工艺配方（Process Recipe），快速切换功率和模式，实现高度的自动化和灵活性。

最重要的是，它的远程等离子体源（RPS）架构本身就是优势。RPS AX7695 驱动的等离子体源通常安装在主腔室外部，只将活性自由基输送到腔室，这能有效避免主腔内产生离子轰击（Ion Bombardment），从而实现超低损伤（Ultra-Low Damage）的晶圆清洗或沉积。这对于制造先进的集成电路（IC）和高分辨率的FPD面板来说，简直是技术红利。这种设计还带来了维护便利性，因为电源和控制部分 RPS AX7695 可以在不干扰真空环境的情况下进行维护或更换。

English Content:

The MKS RPS AX7695 module is a high-performance Remote Plasma Source (RPS) Controller engineered to meet the stringent demands of advanced microelectronics manufacturing, including semiconductor and Flat Panel Display (FPD) fabrication. Its primary distinction is the delivery of exceptionally precise and stable Radio Frequency (RF) power necessary for driving the plasma source. This is crucial for producing a consistent flux of highly reactive, yet damage-free free radicals used in processes such as chamber cleaning, ultra-clean wafer surface treatment, and low-damage deposition.

The RPS AX7695 is characterized by its high-speed closed-loop control, which maintains RF power output with a typical accuracy of ≤±1%, directly contributing to superior process repeatability and maximizing batch yield rates. Integration into modern fabs is streamlined through multiple advanced communication protocols, including Ethernet and Fieldbus options, allowing for complex Process Recipe management and centralized monitoring. Its deployment within an RPS system ensures that the delicate wafer surface is protected from damaging Ion Bombardment, distinguishing the MKS RPS AX7695 as a vital component for next-generation, damage-sensitive manufacturing processes.

应用领域

这块 MKS RPS AX7695 模块的应用领域，都是“金字塔尖”上的高科技制造。

首先，也是最主要的，就是半导体晶圆制造。在晶圆刻蚀机（Etcher）和薄膜沉积设备（Deposition Tools）中，RPS AX7695 扮演了腔体清洗的关键角色。它驱动等离子体源产生的自由基可以高效地清除反应腔内壁残留的聚合物和残渣，确保每一次工艺循环都能在超净的环境下进行，这是防止颗粒污染和提高设备稼动率（Uptime）的关键。

其次是平板显示器（FPD）制造，特别是OLED和高分辨率LCD面板的生产。在这些工艺中，需要对玻璃基板进行超净表面清洗或活化，以提高后续薄膜的附着力和均匀性。RPS AX7695 提供的低损伤、高均匀性等离子体，是确保显示器性能和寿命的核心技术。

此外，太阳能电池（Solar Cell）制造，尤其是高效薄膜电池的生产，以及一些精密的光学镀膜领域，同样需要MKS RPS AX7695 提供的精准等离子体处理。简而言之，只要你的生产过程涉及高真空、等离子体、以及对表面处理有纳米级精度的要求，那么 RPS AX7695 就是你不可或缺的核心装备。

RPS AX7695 MKS

相关产品

RPS AX7695 作为控制器或功率单元，通常需要与 MKS 的射频电源和等离子体源配套使用，构成完整的等离子体系统：

AX7690系列：RPS AX7695 的同系列产品，可能具有不同的功率等级（如 1500 W 或 3000 W），用于满足不同的腔体容积和工艺要求。

Remote Plasma Source Unit：远程等离子体源发生器本体，通常是RPS AX7695 驱动的负载，负责将射频能量转换为活性自由基。

MKS 匹配网络（Matching Network）：在高功率射频系统中必不可少，用于确保射频电源 RPS AX7695 与等离子体源之间的阻抗匹配，最大化功率传输效率。

MKS Mass Flow Controller (MFC)：例如 GE50A系列 或 M100B系列，用于精确控制送入等离子体源的工艺气体流量，与 RPS AX7695 的功率控制协同工作。

MKS Baratron® 压力传感器：用于监测腔室压力，为 RPS AX7695 提供闭环控制所需的关键环境参数。

安装与维护

安装前准备:安装 RPS AX7695 模块前，电源安全是重中之重，它涉及到高压射频，必须由专业工程师操作，确认总电源已断开。由于其属于精密电子设备，安装环境必须符合洁净室标准，避免灰尘进入。检查冷却系统（无论是风冷还是水冷）的连接是否正确且流量满足要求，散热不良是这类高功率射频设备故障的主要元凶。同时，核对 RPS AX7695 的通信接口类型和地址设置，确保能与主控系统正确握手（Handshake）。

维护建议:对 RPS AX7695 的维护，重点在于保持清洁和检查散热。定期检查进出风口或水冷管路，确保没有堵塞或漏水。由于射频电源长期工作在高频高功率状态，建议定期检查射频连接器（RF Connector）和电缆是否有氧化或松动现象，这会严重影响功率传输效率和稳定性，甚至导致故障。