MKS 220DD-00100A2B | 数字输出电容规 | 符合SEMI标准的可靠性解决方案

描述

关键技术规格

• 产品型号: 220DD-00100A2B
• 制造商: MKS Instruments
• 所属系统: Granville-Phillips 220系列电容薄膜规平台
• 测量范围: 0 至 10 Torr（绝对压力）
• 输出信号: 0–10 V DC 线性模拟输出（对应0–10 Torr）
• 精度: ±0.25% of reading（典型值，25°C）
• 长期稳定性: <0.5% / 年（无机械磨损）
• 响应时间: <100 ms（10%–90%阶跃响应）
• 真空接口: NW16 (KF16) 快速法兰（标准）
• 电气接口: 15针 D-sub（兼容MKS 925/937控制器）
• 工作温度: 0°C 至 +50°C（电子单元）；传感头可耐受更高腔室温度
• 材质: 316L不锈钢膜片，全金属焊接密封，无有机材料

功能定位与应用场景分析

MKS 220DD-00100A2B 是 MKS Instruments 针对中低真空精密控制场景推出的经典电容薄膜规（Capacitance Manometer）。它通过测量金属膜片在压力作用下的微小形变来确定绝对压力，其核心价值在于测量结果与气体种类完全无关——无论腔室内是氮气、氩气、氧气还是腐蚀性工艺气体（如NF₃、Cl₂），读数始终保持一致。这一特性使其成为半导体刻蚀、PVD溅射、OLED蒸镀等多气体切换工艺中不可替代的压力基准。

在实际应用中，该传感器解决了传统热传导规（如皮拉尼规）因气体热导率差异导致的测量失真问题，确保工艺重复性。例如，在原子层沉积（ALD）循环中，精确控制1–5 Torr的脉冲压力窗口对薄膜均匀性至关重要，而 MKS 220DD-00100A2B 的±0.25%读数精度和快速响应能力，正是实现这一目标的关键。

典型应用场景包括：

• 场景一：用于半导体干法刻蚀机台的反应腔压力闭环控制，为等离子体阻抗匹配提供高保真反馈
• 场景二：在磁控溅射（Magnetron Sputtering）设备中，监控Ar气工作压力（通常2–8 mTorr至几Torr），确保溅射速率稳定
• 场景三：作为OLED蒸镀腔的主控传感器，在有机材料升华阶段维持1–10 Torr的精确压力环境
• 场景四：在科研级质谱仪或表面分析设备中，作为前级真空段的高精度参考标准，替代易老化的热偶规

质量标准与测试流程

我们深知，真空传感器的漂移或非线性会直接导致整批产品报废。因此，每一支 MKS 220DD-00100A2B 在交付前都必须通过我们建立的多层级验证流程：

• 外观与清洁：所有传感器均经氮气吹扫与超声波清洗，检查膜片区域无颗粒污染、法兰密封面无划伤，并更换全新氟橡胶O型圈（如适用）。
• 上机实测：传感器将被安装到MKS 925测试控制器上，在高真空基准腔（<1×10⁻⁵ Torr）中进行全量程阶梯压力注入测试（0.1, 1, 5, 10 Torr）。
• 功能诊断：使用NIST可溯源标准压力计比对，验证每个测试点的输出电压是否在±0.25%误差带内，并记录温度补偿性能（在10°C–40°C范围内）。
• 质保承诺：仅当线性度、重复性和零点漂移全部达标后，产品方可出库，并附带详细测试报告，提供12个月功能性质量保证。

兼容性与升级路径

为确保 MKS 220DD-00100A2B 能无缝集成到您的现有系统，请务必核对以下关键信息：

• 硬件/固件：该型号为模拟输出版本，需搭配支持0–10V输入的控制器（如MKS 925、937，或第三方PLC的模拟量模块）。若您的系统使用RS485数字通信，请确认是否需要220DD（数字版）而非220DA（模拟版）。
• 配套组件：标准配置为NW16接口，若您的腔室为CF或KF25，请提前告知，我们将提供适配转接法兰或预装版本。
• 替代关系：220DD-00100A2B 是 Granville-Phillips 275系列的直接继承者，电气与机械接口兼容；若量程需求为1 Torr或100 Torr，同平台下有220DD-00010A2B或220DD-01000A2B可选。