描述
关键技术规格
- 产品型号: 839-019080-611
- 制造商: LAM Research (USA)
- 所属系统: LAM 2300 / Kiyo® / Exelan® 系列介质或导体刻蚀平台
- 功能类型: 射频匹配网络(Auto-Matching Network)主控制器
- 控制接口: RS-485 / CAN 总线(与主机MCU通信)
- 传感器输入: 实时采样正向/反射功率(Vfwd, Vref)、电压驻波比(VSWR)
- 执行输出: 驱动步进电机或伺服机构调节可变电容(Tune & Load)
- 工作频率范围: 典型支持 2 MHz / 27 MHz / 60 MHz 多频段(依平台配置)
- 防护特性: 内置过压、过流、VSWR 超限保护逻辑
- 安装形式: 标准设备内嵌式模块,DIN导轨或背板插接(依机型而定)
功能定位与应用场景分析
LAM 839-019080-611 是 LAM Research 刻蚀设备中射频子系统的关键控制单元,专为解决“等离子体阻抗动态失配”这一核心工艺挑战而设计。在先进制程(如FinFET、GAA)的刻蚀过程中,腔室内气体成分、压力及晶圆表面状态持续变化,导致负载阻抗剧烈波动。若不及时调谐,将引发反射功率升高、射频不稳定,进而造成刻蚀速率漂移、CD均匀性劣化甚至晶圆损伤。839-019080-611 通过毫秒级闭环反馈,驱动匹配网络中的可变电容,将系统维持在接近50 Ω的理想匹配点,确保射频能量高效、可重复地注入等离子体。
该模块不仅关乎设备 uptime,更直接影响工艺窗口的稳定性与良率。其性能直接体现在关键指标如 Within-Wafer Non-Uniformity (WIWNU) 和 Chamber-to-Chamber Matching 上。
典型应用场景包括:
- 场景一:部署于 LAM Kiyo® FLEX 介质刻蚀机台,用于 3D NAND 存储孔(Channel Hole)高深宽比刻蚀,要求长时间功率稳定性以避免 bowing 或 twisting 缺陷。
- 场景二:作为 Exelan® HCE 导体刻蚀平台的核心组件,在铜互连或接触孔刻蚀中维持低 VSWR,防止金属再沉积或侧壁残留。
- 场景三:用于 200mm 或 300mm Fab 中老旧 LAM 2300 系列设备的维保替换,确保停产风险最小化,同时保持与现有 PM 流程和配方的完全兼容。
质量标准与测试流程
在半导体制造环境中,一个故障的匹配控制器可能导致整批晶圆报废或腔室污染,其隐性成本远高于模块本身。因此,我们对每一块 839-019080-611 执行基于真实设备行为的深度验证:
- 外观与清洁:使用无尘室级清洁流程去除颗粒物,检查 PCB 无烧痕、电容无鼓包、连接器针脚无弯曲,确保可安全插入高价值设备。
- 上机实测:模块安装至 LAM 2300/Kiyo 模拟测试平台(含真实 RF generator 与 dummy load),加载标准刻蚀配方,连续运行 8 小时,监测匹配响应时间、稳态 VSWR 及通信心跳信号。
- 功能诊断:模拟 VSWR 超限、电机堵转、通信中断等故障场景,验证保护逻辑是否触发;注入阶跃功率变化,记录 Tune/Load 电容调整曲线,确认动态响应符合 LAM 规范。
- 质保承诺:仅通过全部测试项的模块方可出库,并附带测试报告(含 VSWR 曲线、通信日志),提供 12 个月功能性质量保证。
兼容性与升级路径
为确保 839-019080-611 在您的 LAM 设备中无缝运行,请注意以下关键兼容性要素:
- 设备平台:该模块主要适配 LAM 2300 系列(如 2300 Exelan®)及早期 Kiyo® 平台;部分 Kiyo® FLEX 或 Coronus® 机型可能需固件或机械接口适配,请提供设备序列号确认。
- 固件依赖:模块需与主机软件版本(如 PMS v5.x)匹配;若您的系统已升级至 LAM 最新 SECS/GEM 架构,可能需要同步更新匹配器固件。
- 替代关系:839-019080-611 是 Rev C 版本;Rev A/B 已停产,但引脚与通信协议兼容,可直接替换;若您的应用仅需基础匹配功能,也可评估 LAM 兼容第三方方案(需额外验证)。




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