AMAT 0100-71365 | 真空腔体用高精度压力传感器 | 半导体工艺可靠性解决方案

  • 型号: 0100-71365
  • 品牌: Applied Materials (AMAT)
  • 核心功能: 用于半导体制造设备(如 PECVD、刻蚀机)真空腔体的高精度绝对压力测量,基于电容式薄膜规(Capacitance Manometer)原理,量程 0–10 Torr,输出 0–10 V 模拟信号。
  • 质保标准: 12个月质保,经洁净处理与功能实测
分类: SKU: AMAT 0100-71365

描述

关键技术规格

  • 产品型号: 0100-71365
  • 制造商: Applied Materials, Inc.
  • 所属系统: AMAT Producer®, Centura®, Endura® 等前道工艺设备平台
  • 测量原理: 电容式薄膜规(Capacitance Manometer)
  • 量程范围: 0 – 10 Torr(绝对压力)
  • 输出信号: 0 – 10 V DC(线性模拟输出)
  • 精度: ±0.25% of Full Scale(典型值)
  • 工作温度: 10°C 至 50°C(环境)
  • 接口类型: KF16 或定制法兰(依设备配置)
  • 供电要求: +15 V / -15 V DC(±5%)
  • 洁净等级: 符合 SEMI F57 标准,无颗粒脱落风险

功能定位与应用场景分析

AMAT 0100-71365 是 Applied Materials 为其前道半导体制造设备(如 PECVD 薄膜沉积、等离子体刻蚀系统)设计的关键过程传感组件。它主要用于解决在低压工艺(<10 Torr)下对气体压力进行高重复性、高稳定性的实时监测需求。不同于热导式或皮拉尼规,该传感器采用电容式薄膜规技术,其测量结果不受气体种类影响,确保在 Ar、CF₄、SiH₄ 等不同工艺气体切换时仍能提供一致的压力读数——这对薄膜均匀性与刻蚀速率控制至关重要。
在先进制程中,腔体压力波动超过 ±0.1 Torr 就可能导致批次报废。AMAT 0100-71365 通过高刚性陶瓷膜片与低漂移电子电路,实现长期零点稳定性(<0.1% FS/年),显著降低工艺窗口失控风险。
典型应用场景包括:
  • PECVD 薄膜沉积设备:实时监控反应腔压力,确保 SiN 或 SiO₂ 薄膜厚度一致性。
  • 电介质刻蚀机台:在 CF₄/O₂ 混合气体环境中提供精确压力反馈,维持等离子体稳定性。
  • 老旧 AMAT 设备维保:作为停产原厂件的直接替换方案,无需修改腔体接口或控制软件。
  • 多腔集成系统:用于 Transfer Module 或 Load Lock 的粗抽阶段压力闭环控制。

质量标准与测试流程

在半导体制造中,一个失效的压力传感器不仅导致单次工艺失败,还可能引发交叉污染或腔体异常停机。因此,我们对 AMAT 0100-71365 实施高于行业常规的洁净与功能验证流程:
  • 外观与清洁:所有传感器在 ISO Class 5 洁净室环境下拆包,使用半导体级溶剂超声清洗,并通过粒子计数仪验证表面洁净度(符合 SEMI 标准)。
  • 上机实测:接入 AMAT 模拟测试平台(含匹配电源与信号采集卡),在 0.1、1、5、10 Torr 多点进行压力响应测试,验证线性度与重复性。
  • 功能诊断:检查 ±15 V 供电电流是否在规格内(典型 <150 mA),确认 0–10 V 输出无跳变、迟滞或噪声干扰;同时验证零点漂移是否 <10 mV。
  • 质保承诺:仅通过全部洁净与电气测试的单元方可出库,并附带测试数据摘要。提供 12 个月功能性质保,覆盖膜片、电路板及密封性能。

兼容性与升级路径

为确保 AMAT 0100-71365 在您的设备中可靠运行,必须严格核对其与现有系统的机械、电气及控制接口匹配性。错误安装可能导致真空泄漏或控制器误判。
  • 硬件/固件:请确认您的设备主控软件版本支持该传感器型号(通常适用于 SW Rev 8.0 及以上)。部分早期 Centura 系统需更新 I/O 卡配置文件。
  • 配套组件:此传感器必须使用原厂屏蔽电缆(如 AMAT P/N 0090-XXXXX)和匹配的 KF16 密封圈(Viton 材质)。金属垫圈或旧式橡胶圈可能导致慢漏。
  • 替代关系0100-71365 是 10 Torr 量程的标准件。若您的工艺压力常处于 0–1 Torr,可评估 0100-71364(1 Torr 量程)以获得更高分辨率;反之,高压段应用应选用 0100-71366(100 Torr)。